Aufdampfanlage Kundenspezifisch aufgebaut.
Komponenten:
Elektronenstrahlverdampfer der neuesten Generation ,
verschiedenste Verdampfer- Typen und -Größen,
Thermische Verdampfer
Ionenquellen
Heizung
Substrathalter mit Einzelkalotte oder Planetarsystem
Niederdruck Plasmaanlagen –
Prozessabhängig in verschiedensten Ausführungen erhältlich.
Steuerung: Standard oder PC .
Für Ihre Applikation finden wir mit Ihnen eine Lösung.
Hauptanwendungen:
Entfernung von Fotolack
Strippen von Oxyde und Nitride
Oberflächenbehandlung.
VPO 50
HMDS (Hexamethyldisilazan) -Ofen , für Oberflächenvorbehandlung.
In eine Vakuum dichte, elektrisch beheizte Ofenkammer, werden die in Carrier eingebrachten Silizium Substrate (Wafer) mit der gasförmigen Chemikalie „Hexamethyldisilazan“ ( HMDS ) unter Einwirkung von erhöhter Temperatur dehydriert (Feuchtigkeit entzogen) und Vakuum bedampft und somit beschichtet Diese Schicht bewirkt auf der Wafer Oberfläche eine haftvermittelnde Wirkung (Primer ‚ Vorbehandlung) und schützt für ca. 4 Stunden vor Feuchtigkeitsaufnahme.